二次加硫とは成形したシリコーンゴム製品に含まれる「低分子シロキサン」と呼ばれている電気接点部などを腐食させ電気接点障害の原因となる物質を２００℃〜２２０℃の高温にて除去する処理のことです。
　除去といってもこの「低分子シロキサン」の残留量をゼロにすることは難しいため最大限まで低下させる処理を徹底管理のもと行っています。

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当社処理後の環状シロキサン定量分析試験報告書		(1,016KB)

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